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科研/生产型程控管式炉

主要用于高温氧化，硼、磷扩散等工艺，是制作硅器件、半导体激光器及功能器件的关键设备之一。
还可以用于合金、烧结、退火等工艺。

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JYL/ WGL-1200 微型管式炉

主要用于高温氧化，硼、磷扩散等工艺，是制作硅器件、半导体激光器及功能器件的关键设备之一。
还可以用于合金、烧结、退火、活化、升华、裂解等工艺。

◆ 突出特点是：微型化、高效节能、使用便捷、定制控温和程序控温两种方式，最适合科研院所和高校实验室使用。

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JYL/ KQGL- 1000开启式管式炉

主要用于物理气相沉积等工艺，可以设置一定温度梯度的恒温区，同时可以掀起炉体的上半部，以便观察样品表面沉积状态的变化。
还可以用于合金、烧结、退火等工艺。
◆ 突出特点是：微型化、高效节能、使用便捷、定制控温和程序控温两种方式，最适合科研院所和高校实验室使用。

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特高温管式炉

主要用于光纤热处理、高温烧结等特需高温条件工艺研究。

◆ 突出特点是：最适合科研院所和高校实验室使用。
◆ 配有自动推、拉机构
◆ 配备专用刚玉管

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箱式炉

主要用于热处理、烧结、烘烤、合金等工艺研究。

◆ 突出特点是：最适合科研院所和高校实验室使用。
◆ 配备专用刚玉内衬板
◆ 放置样品量大
◆ 根据需要，可配置保护气体管路

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薄膜热压熔接设备

适用于耐热薄膜的热压熔接工艺
【可以根据薄膜材料的性质和厚度选择熔接温度。】

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